Kemična hlapna deponija tantala

Kemična hlapna deponija tantala je edinstvena tantalna obdelava, ki podaljša življenjsko dobo pritrdilnikov v različnih jedkih kemičnih okoljih. Stresna korozija razpoka (SCC) pritrdilnikov je pogost problem, kjer natezna stres in korozija delujeta hkrati. Obdelani s kemično hlapno deponirajo tantalno plastjo, korozija se odpravi in preprečijo napake, ki jih povzroča stresna korozija. Tantal je prepoznan kot najbolj korozijo odporna kovina za industrijsko uporabo. Tantalni premaz, pripravljen s kemično hlapno deponijo tantala, ima odlično odpornost na korozijo in podaljša življenjsko dobo različnih pritrdilnikov.

Postopek kemične hlapne deponacije (CVD) se uporablja za kemično deponiranje hlapov (CVD) tantalnih premazov, ki lahko proizvajajo enotne plasti tantala, primerne za kompleksne geometrije, kot so niti. Pritrdila, obdelana s CVD tantalom, imajo v primerjavi z nerjavečim jeklom odlično visoko temperaturno odpornost na korozijo. Ščiti pred vsemi oblikami korozije, vključno s stresno korozijo, utrujenostjo korozije in krekcijo korozije v prisotnosti vročih kislin, s čimer zmanjšuje neuspeh. Druga prednost je enostavna razstavljanje, zmanjšanje časa vzdrževanja in stroškov. Metalurske lastnosti površine tantala združujejo z enotno, konformalno plastjo CVD za proizvodnjo trdnega izdelka z ekonomično ceno in kratkimi svinčenimi časi